制造工程研究院高端论坛第九场—椭偏测量原理与应用
2016-05-31访问次数:

     5月30日上午10:00,制造工程研究院“高端论坛”第九场在厦门校区王源兴国际会议中心103会议室举办。本次讲座的主讲嘉宾华中科技大学刘世元教授为大家带来了一场题为“椭偏测量原理与应用”的高端学术讲座。讲座由制造工程研究院崔长彩教授主持。
    刘世元教授是武汉光电国家实验室(筹)光电材料与微纳制造研究部及华中科技大学机械科学与工程学院教授、机械电子信息工程系副主任,主要从事微机电系统(MEMS)、微纳设备与工艺、精密测试与仪器、设备监测与诊断等方面的教学和研究工作。
    刘世元教授在题为“椭偏测量原理与应用” 的专题报告中,首先介绍了传统椭偏测量的基本原理及其在多层光学薄膜表征中的应用。接下来阐述本课题组在基于穆勒矩阵椭偏仪的纳米结构形貌测量方面的最新研究进展,包括自主研制的国内第一台高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏仪以及其在纳米结构薄膜测量中的典型应用实例。最后展望并探讨椭偏测量在OLED、OPV等柔性电子新材料与新工艺研发及大面积薄膜在线监测中的潜在应用。讲座内容丰富,使同学们获取了很多新知识。
    讲座最后,现场老师和同学们向刘世元教授请教了自己的疑问,刘教授热情耐心地一一解答,双方进行了进一步的交流。